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一、综述1

等离子体表面工程——技术动向和影响 ［德国］A·Hauff1

无机薄膜沉积工艺中的等离子体气氛 ［美国］D·M·Mattox8

摩擦表面离子处理改性的现状和展望 ［美国］T·Spalvins20

等离子扩渗处理 ［德国］K·-T·Rie31

表面与薄膜分析的最新进展 ［德国］H·Oechsner42

二、离子沉积技术53

空心阴极辉光放电形成TiN工艺中氮的反应概率 ［日本］Y·Matsumura等53

用计算机对等离子体聚合过程进行探针诊断研究 ［捷克］s·Novak57

用等离子体增强CVD法在钢上沉积TiN及形状的影响 ［德国］K·-T·Rie等62

钢表面形成TiC的脉冲直流等离子CVD工艺 ［德国］K·-T·Rie等68

辉光放电形成TiN及其复合膜 ［波兰］T·Wierzchon等72

等离子体增强PVD镀膜技术与工业应用 ［列支敦］E·Bergmann等77

可控电弧技术 ［德国］E·Erttirk等82

塑性基体上薄膜的制作与应用 ［德国］w·Muler等87

软材料上涂覆氮化铬的性能与摩擦学行为 ［德国］D·Dubiel等92

机械零件材料上PVD涂层的研究 ［意大利］G·Schullern等99

三、离子渗扩104

等离子体——表面相互作用下新相层生长模型 ［苏联］z·A·Iskanderova等104

使用空气的等离子氮化 ［德国］H·-J·K0lbel等108

等离子体氮化：过程与机制 ［英国］A·Leyland等113

等离子体(离子)渗氮与等离子体(离子)氮碳共渗装置和应用 ［德国］F·Hombeck等119

离子氮化低合金钢的主要磨损机理 ［英国］Y·Sun等125

不锈钢离子氮化后的点腐蚀性能 ［日本］K·Ichii等131

用低压多枪等离子喷涂工艺喷涂涡轮叶片时的沉积过程 ［美国］J·R·Rairden等135

四、喷涂135

涂层结构和热处理对等离子喷涂陶瓷涂层耐热冲击性能的影响 ［日本］M·Hohle等139

生产型计算机控制真空等离子喷涂系统的设计 ［德国］H·-M·Hohle等144

激光处理提高等离子喷涂层的耐腐蚀性与热均压提高等离子喷涂层的耐磨性 ［比利时］M·Hannotiau等156

五、溅射161

低温磁控溅射耐磨镀膜的新发展 ［德国］O·Knotek等161

加钴碳化钨硬膜的制作与优化 ［葡萄牙］A·Cavaleiro等［法国］G·Lemperiere等166

靶性质对溅射过程及磁光薄膜的影响 ［德国］L·A·Berchtold等172

磁控溅射Ti-Zr-N系列硬膜的结构与性质 ［德国］O·Knotek等177

涂层基本性能对射频偏压溅射TiN磨损行为的影响——磨损试验机试验与零件实际应用试验 ［德国］Th·Roth等181

六、表面与膜的成分、结构和性能测试187

高织构PVD镀层的残余应力和x射线弹性常数 ［法国］R·Y·Fillit等 ［美国］A·J·Perry等187

膜厚对离子镀TiN及(Ti，Al)N膜孔隙率及表面粗糙度的影响 ［德国］H·Freller等192

TiNx和ZrNx复层结构的定量AES分析 ［南斯拉夫］P·Panjan等197

低温沉积TiNx镀层的深度分布分析 ［德国］W·Boise等203

用反应磁控溅射法制备的M100-xNz薄膜的化学与结构特征 ［法国］A·Bourjot等208

TiN镀层的X射线全衍射图分析 ［捷克斯洛伐克］V·Valvoda等214

钨灯丝辅助加热RF等离子CVD沉积BN膜的结构 ［日本］Y·Ichinose等219

氮化钛膜沉积过程中加离子轰击形成的织构和微观结构的变化 ［南朝鲜］B·H·Hahn等223

硬耐磨陶瓷涂层组织与性能间的关系 ［英国］D.S.Rickerby等228

用划痕法作抗磨损硬镀层结合力试验 ［英国］S·J·Bull等233

七、离子束技术和硬碳膜238

用于减少磨损与腐蚀保护的离子束混合技术 ［德国］G·K·Wolf等238

室温下离子束增强沉积的TiN膜的点蚀行为 ［中国］Wang Bu-Qian ［美国］H·Herman等251

离子辅助法制备非晶i-C膜 ［德国］W·Scharff等257

用RF等离子CVD从有机化合物合成金刚石 ［日本］M·Yamamoto等262

w-C:H非晶体膜的机械与化学特性 ［荷兰］W·V·Duyn等269